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全自動雙站化學吸附儀

簡要描述:CM8320系列全自動雙站化學吸附儀基于動態(tài)技術,可進行TPD(程序升溫脫附)、TPR(程序升溫還原),TPO(程序升溫氧化)、脈沖化學吸附測金屬分散度、蒸汽吸附、BET單點比表面積的物理吸附分析、多組分競爭性吸附,用于測定催化劑材料的酸堿量、酸堿強度、貴金屬分散度、氧化還原性能、多組分競爭性吸附等重要指標。

  • 產品型號:CM8320系列
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-03-23
  • 訪  問  量:3173

詳細介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
儀器種類化學吸附儀產地類別國產
應用領域化工

     ChemiMaster 8320(CM8320)系列儀器基于動態(tài)技術可進行TPD(程序升溫脫附)、TPR(程序升溫還原),TPO(程序升溫氧化)、脈沖化學吸附測金屬分散度、蒸汽吸附、BET單點比表面積的物理吸附分析、多組分競爭性吸附,用于測定催化劑材料的酸堿量、酸堿強度、貴金屬分散度、氧化還原性能、多組分競爭性吸附等重要指標。

全自動雙站化學吸附儀CM8320 

               

全自動雙站化學吸附儀CM8320配置
分析站數(shù)量:2個,獨立運行
TCD數(shù)量:    2個
質量流量控制器數(shù)量:4個
尾部質量流量計數(shù)量:1個
電動六通閥數(shù)量:2個
電動四通閥數(shù)量:4個
全自動雙站化學吸附儀CM8320特點
分析站:  雙站設計,獨立運行
管路結構:并聯(lián),2個并聯(lián)結構
保溫設計:  整體管路控溫保溫
防腐蝕功能:整體管路防腐蝕設計
風冷系統(tǒng):2個強制風冷系統(tǒng)
冷阱數(shù)量:2個
進氣端口:8路,儀器可自由切換
蒸汽發(fā)生器:連續(xù)和脈沖兩個模式
全自動雙站化學吸附儀CM8320技術參數(shù)
●加熱爐工作溫度最高1200℃可選低溫裝置
●加熱爐采用“床溫"和“爐溫"雙點測控
●樣品溫度通過獨立的溫度傳感測量與控制
●檢測器類型為萊鎢合金熱導檢測器TCD 
●儀器內部整體保溫,最高可達300℃
● 氣體流速范圍 5~100 SCCM
● 軟件程序升溫實時顯示,閥門狀態(tài)顯示
●質譜取氣端口在樣品管出氣口,避免氣流干擾
● 儀器具有系統(tǒng)危險狀態(tài)報警功能
● 可選配蒸汽發(fā)生器,整體管路保溫
● LOOP環(huán)可以定制選配3種體積以上
● 管路1/8 英寸SS 316不銹鋼管 
● 儀器內部管線和控制閥門均可保溫
全自動化學吸附儀CM8320尺寸

全自動化學吸附儀CM8320剖式圖
儀器CM8300系列選型指南

儀器可升級為競爭性吸附
通過TPD或脈沖滴定等過程,可以測試樣品對于特定氣體吸附量。但在實際應用中,樣品所接觸到的氣氛通常更為復雜,不同氣體同時與樣品接觸時,吸附能力并非簡單的加和關系,而有可能表現(xiàn)出不同組分的競爭關系(X組分的存在有可能抑制樣品對于Y組分的吸附)或協(xié)調關系(X組分的存在有可能促進樣品對于Y組分的吸附)。因此對于實際應用場景,有必要針對更為復雜的氣體配比條件,測試樣品對于多組分氣體的實際吸附能力。
 TPD程序升溫脫附
樣品的表面活性位(例如酸中心)吸附探針分子(例如NH3)后,在載氣吹掃下進行程序升溫,記錄樣品溫度與載氣濃度的變化,即為TPD測試譜圖。譜圖中探針分子的脫附峰的溫度對應活性中心的強度,譜圖中探針分子的脫附峰的面積對應活性中心的數(shù)量。
TPR/TPO程序升溫還原/程序升溫氧化
TPR用于表征金屬催化劑的還原性。用一定比例的H2/Ar混合氣體作為載氣流過樣品床層并按照一定速率程序升溫。記錄樣品溫度與載氣濃度的變化,即為TPR測試譜圖。譜圖中還原峰的溫度對應金屬中心的還原性能,譜圖中還原峰的面積對應金屬中心還原過程的耗氫量。
TPO與TPR類似,用氧化性氣體代替還原性氣體,用于測試金屬中心的氧化性能。
脈沖滴定
以脈沖方式向樣品表面定量注入特定的氣體,記錄載氣濃度的變化,未被吸附的氣體將流過樣品床層并被檢測器記錄。記錄載氣濃度的變化得到脈沖滴定譜圖,其中記錄到的峰對應于未被吸附的氣體的量,脈沖的次數(shù)對應于總脈沖量,兩者差減就是樣品的吸附量。脈沖滴定用于表征活性金屬面積,分散度,平均晶粒尺寸等參數(shù)。




 

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